君睿科技是专业的Nikon光刻机服务商，我们为客户提供Nikon stepper I7-I14的维修，改造以及安装调试等专业服务，为客户提供I7-I14的各种配件和耗材，提供光刻机维护工具和用品，欢迎您的咨询选购。
一、光刻技术的基本原理和基本类型
光学曝光技术经历了从接触式曝光、接近式曝光、分步重复投影式曝光到目前的扫描投影式曝光。
二、接触和接近式光刻
接触 /接 近式 光刻发展最早,它采 用掩模与硅片贴近 曝光的方式 1 : 1 复印掩激 光干涉 光刻技术研究模 板上 的图形。主要光源为汞 /氛灯所产生 的紫外光, 常用 的三个波段为 4 36nm(g线 )、405nm (h线)和 365nm(i线)。这类光刻机结构简单,价格便宜,发展也较成熟。但由由于是 1:1 复制,对掩模制作的要求较高,复制时的衍射效应也使得分辨率受到限制,通常最高可达1 p m 左右。由于曝光时掩模板直接和光刻胶接触,极易污损。然而由于其成本低廉,至今在微细加工光刻技术中仍占有一席之地,在微光学、微机电系统及微波器件制造等对光刻分辨率要求相对较低的领域仍广泛使用。
三、光学投影式光刻
光学投影光刻是通过光学系统 以投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构 图形缩 小“ 印” 在涂有光致抗蚀 剂的硅 片上。缩小比例通常有 4 : 1、5 : 1、10 : 1 等。该技术为目前的主流光刻技术,约占目前光刻 设备市场分额的 70 % 以上。
该技术优点是分辨率高,不污损掩模板。
要提 高投 影光 刻的分辨率, 就要缩短曝 光波 长 或增大光 学成像系统 的数值孔径。因此,开发新 型短波长光源光刻机一 直是 国 际 上 的研 究热点
。 从 80年代 以来, 投影式光刻机 的曝光波 长从 g 线 (4 3 6 n m )发展 到 i 线 (3 6 5nm)、深 紫外 (24 8nm)和 真空紫外波段 ( 1 9 3nm和15 7 n m )。N A也从以前 的0.28发展到目前的0.7水平。目前 投 影 式 光 刻常 用 的光源有248n m的 KrF 准分子激光、193nm的 ArF 准分子激光。由于光刻物镜需要,能否获得具有良好的透明度的光学材料限制了所用的曝光波长,15 7n m 的 F2准分子激光和126mn的Ar2激光光源的应用还存在很多问题,如透镜材料,掩模,光刻系统,抗蚀剂,生产率,可靠性等。
所以据估计,193nm可能是光学光刻技 术所能采用 的最 后 的曝光波长。结合增强 分辨率 的波前工程技术可以推进光刻技术极限和延长光刻技术寿命。
四、Nikon stepper I7-I14 、S204设备销售、维修、安装 、调试等服务
我们拥有由资深光刻工程师组成的经验丰富的团队。我公司光刻服务团队知识结构搭配合理，所学专业为电子工程、机电一体化、物理学和光学专业等。资深工程师拥有十多年光刻机一线调试和维修经验，曾任职一线大厂光刻部光刻设备主管。其余成员，也均有多年NIKON 光刻机维修、保养工作经验。我公司光刻团队，曾为多个客户提供NIKON I7-I14 光刻机的维修、安装、技改和调试服务，为客户提供S204安装服务。另外我们还为客户提供I7-I14的各种配件和耗材，提供光刻机维护工具和用品，欢迎您的咨询选购。
日常检修内容简述：
1. 公共的压空和真空检查，压空 2.75-3.25kg / cm 2 , 真空 大于等于 460mm Hg ;
2. 腔体环境检查， 腔体温度 正负 0.1 摄氏度；IATC 温度和 LLTC 温度检查 ；冷却水流速 13L/MIN ,水温 24 摄氏度 ；空调制冷压力 S 高压 在 14-16 kg / cm2 , 低压 4.2 - 5.5 kg / cm2 , A 高压 1.4-1.6 MPA , 低压0.42-0.5 MPA 。
每日检查 汞灯电流 ， SUV-2001 N1 ,60-76 A ; SUV-2002 N1 60-76 A ; SUV-2003N1 70-93 A . 操作时间小于等于 750小时 ； 卤素灯 Halogen lamp 操作时间11小时，ALCP 腔体温度 正负1 摄氏度。
每个星期检查 晶圆上传，晶圆平台平整度，颗粒检查，6英寸晶元 2.5mm/150mm 、8英寸晶元 3um/200mm ; 晶圆平台支架倾斜检查和矫正 ；
每月检查，对于晶圆平台 X Y轴丝杆检查，清洗油脂上油维护；滚针轴承面 z轴和 θ 轴 清洁保养 ，电磁阻尼器的异物检查。
每月检查干涉计，晶圆系统接收电压 输出电压，对准系统接收电压，晶圆台移动镜的污染；照明系统照明均匀度，输出能量nikon i11 对于5英寸 要求大于等于850 mw/cm2；对于6英寸，要求大于等于750mw/cm2 ; 对于nikon i 12 要求 5英寸输出能量 大于等于900 mw / cm 2 ,6 英寸要求大于等于800 mw /cm 2 。
另外每月还需要检查精准度，步进准确度 ， OVERLAY 叠加精度 以及 自动调平的精度等一些列指标。
如您有光刻机Nikon stepper I7-I14的维修，改造以及安装调试等需求，或者有各种马达、驱动器、激光管、激光干设计等配件和耗材需要，欢迎与我们联系！
更多相关专业技术资料，参考如下文章：
1. Nikon stepper I7-I14 设备销售、维修、安装 、调试等服务 https://www.junr.com.cn/semiconductor%20news/637.html
2.TEL MARK-V MARKVZ MARK7/8 DNS 设备销售及技术服务 https://www.junr.com.cn/semiconductor%20news/635.html
3. Nikon stepper I7-I14 、S204光刻机主要结构和主动隔振系统介绍 https://www.junr.com.cn/semiconductor%20news/673.html
4. Nikon stepper I7-I14 、S204光刻机光刻对准与曝光介绍 https://www.junr.com.cn/semiconductor%20news/675.html
5. Nikon stepper I7-I14 步进扫描投影光刻工艺简述 https://www.junr.com.cn/semiconductor%20news/677.html
6. 提供Nikon stepper I7-I14 、S204光刻机激光步进对准调试和维护 https://www.junr.com.cn/semiconductor%20news/679.html
